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Artigo de periodico
Study of MOS capacitor with TiO2 and SiO2 and SiO2/TiO2 gate dielectric (2007)
Albertin, Katia Franklin ; Valle, M A; Pereyra, Inés
Source: Journal of Integrated Circuits and Systems. Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, CIÊNCIA DA COMPUTAÇÃO
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ABNT
ALBERTIN, Katia Franklin e VALLE, M A e PEREYRA, Inés. Study of MOS capacitor with TiO2 and SiO2 and SiO2/TiO2 gate dielectric. Journal of Integrated Circuits and Systems, v. 2, n. 2, 2007Tradução . . Acesso em: 21 maio 2024.
APA
Albertin, K. F., Valle, M. A., & Pereyra, I. (2007). Study of MOS capacitor with TiO2 and SiO2 and SiO2/TiO2 gate dielectric. Journal of Integrated Circuits and Systems, 2( 2).
NLM
Albertin KF, Valle MA, Pereyra I. Study of MOS capacitor with TiO2 and SiO2 and SiO2/TiO2 gate dielectric. Journal of Integrated Circuits and Systems. 2007 ;2( 2):[citado 2024 maio 21 ]
Vancouver
Albertin KF, Valle MA, Pereyra I. Study of MOS capacitor with TiO2 and SiO2 and SiO2/TiO2 gate dielectric. Journal of Integrated Circuits and Systems. 2007 ;2( 2):[citado 2024 maio 21 ]
Artigo de periodico
Modification of electrode materials for plasma torches (2005)
Jankov, Ivan; Szente, Roberto Nunes; Goldman, I D; Paez Carreño, Marcelo Nelson ; Valle, M A; Behar, M; Costa, C A R; Galembeck, F; Landers, R
Source: Surface & Coatings Technology. Unidades: EP, IF
Subjects: MATERIAIS, SUPERFÍCIE FÍSICA, FÍSICA ATÔMICA
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ABNT
JANKOV, Ivan et al. Modification of electrode materials for plasma torches. Surface & Coatings Technology, v. 200, n. 1-4, p. 254-257, 2005Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2005.02.015. Acesso em: 21 maio 2024.
APA
Jankov, I., Szente, R. N., Goldman, I. D., Paez Carreño, M. N., Valle, M. A., Behar, M., et al. (2005). Modification of electrode materials for plasma torches. Surface & Coatings Technology, 200( 1-4), 254-257. doi:10.1016/j.surfcoat.2005.02.015
NLM
Jankov I, Szente RN, Goldman ID, Paez Carreño MN, Valle MA, Behar M, Costa CAR, Galembeck F, Landers R. Modification of electrode materials for plasma torches [Internet]. Surface & Coatings Technology. 2005 ; 200( 1-4): 254-257.[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2005.02.015
Vancouver
Jankov I, Szente RN, Goldman ID, Paez Carreño MN, Valle MA, Behar M, Costa CAR, Galembeck F, Landers R. Modification of electrode materials for plasma torches [Internet]. Surface & Coatings Technology. 2005 ; 200( 1-4): 254-257.[citado 2024 maio 21 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2005.02.015
Trabalho de evento
Desenvolvimento de tecnologia de fabricacao de circuitos integrados monoliticos de microondas em 'GA''AS' (1992)
Cordaro, M H; Patiri Neto, V; Valle, M A
Source: Telemo 92: Anais. Conference titles: Simposio Brasileiro de Telecomunicacoes. Unidade: EP
Subjects: TECNOLOGIA DE MICRO-ONDAS, TECNOLOGIA DE MICRO-ONDAS
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ABNT
CORDARO, M H e PATIRI NETO, V e VALLE, M A. Desenvolvimento de tecnologia de fabricacao de circuitos integrados monoliticos de microondas em 'GA''AS'. 1992, Anais.. Brasília: Unb/Telebras, 1992. . Acesso em: 21 maio 2024.
APA
Cordaro, M. H., Patiri Neto, V., & Valle, M. A. (1992). Desenvolvimento de tecnologia de fabricacao de circuitos integrados monoliticos de microondas em 'GA''AS'. In Telemo 92: Anais. Brasília: Unb/Telebras.
NLM
Cordaro MH, Patiri Neto V, Valle MA. Desenvolvimento de tecnologia de fabricacao de circuitos integrados monoliticos de microondas em 'GA''AS'. Telemo 92: Anais. 1992 ;[citado 2024 maio 21 ]
Vancouver
Cordaro MH, Patiri Neto V, Valle MA. Desenvolvimento de tecnologia de fabricacao de circuitos integrados monoliticos de microondas em 'GA''AS'. Telemo 92: Anais. 1992 ;[citado 2024 maio 21 ]
Relatorio tecnico
Desenvolvimento de capacitores mom (1988)
Cordaro, M H; Valle, M A; Saito, M
Unidade: EP
Assunto: CAPACITORES
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ABNT
CORDARO, M H e VALLE, M A e SAITO, M. Desenvolvimento de capacitores mom. . São Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 21 maio 2024. , 1988
APA
Cordaro, M. H., Valle, M. A., & Saito, M. (1988). Desenvolvimento de capacitores mom. São Paulo: Lme-Usp.
NLM
Cordaro MH, Valle MA, Saito M. Desenvolvimento de capacitores mom. 1988 ;[citado 2024 maio 21 ]
Vancouver
Cordaro MH, Valle MA, Saito M. Desenvolvimento de capacitores mom. 1988 ;[citado 2024 maio 21 ]
Relatorio tecnico
Estudo de filmes de oxido de tantalo (1988)
Valle, M A
Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
VALLE, M A. Estudo de filmes de oxido de tantalo. . São Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 21 maio 2024. , 1988
APA
Valle, M. A. (1988). Estudo de filmes de oxido de tantalo. São Paulo: Lme-Usp.
NLM
Valle MA. Estudo de filmes de oxido de tantalo. 1988 ;[citado 2024 maio 21 ]
Vancouver
Valle MA. Estudo de filmes de oxido de tantalo. 1988 ;[citado 2024 maio 21 ]
Relatorio tecnico
Fabricacao de capacitores de pentoxido de tantalo (1988)
Valle, M A; Cordaro, M H
Unidade: EP
Assunto: CAPACITORES
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ABNT
VALLE, M A e CORDARO, M H. Fabricacao de capacitores de pentoxido de tantalo. . São Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 21 maio 2024. , 1988
APA
Valle, M. A., & Cordaro, M. H. (1988). Fabricacao de capacitores de pentoxido de tantalo. São Paulo: Lme-Usp.
NLM
Valle MA, Cordaro MH. Fabricacao de capacitores de pentoxido de tantalo. 1988 ;[citado 2024 maio 21 ]
Vancouver
Valle MA, Cordaro MH. Fabricacao de capacitores de pentoxido de tantalo. 1988 ;[citado 2024 maio 21 ]
Relatorio tecnico
Resistor em filme fino (1988)
Saito, M; Cordaro, M H; Valle, M A
Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
SAITO, M e CORDARO, M H e VALLE, M A. Resistor em filme fino. . Sao Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 21 maio 2024. , 1988
APA
Saito, M., Cordaro, M. H., & Valle, M. A. (1988). Resistor em filme fino. Sao Paulo: Lme-Usp.
NLM
Saito M, Cordaro MH, Valle MA. Resistor em filme fino. 1988 ;[citado 2024 maio 21 ]
Vancouver
Saito M, Cordaro MH, Valle MA. Resistor em filme fino. 1988 ;[citado 2024 maio 21 ]

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